佳能將于2022年9月5日起發售解決方案平臺“Lithography Plus1”服務(以下簡稱“Lithography Plus”)，該系統匯聚佳能在半導體制造領域超過50年的技術積淀，以包括曝光工藝在內的海量半導體制造數據為支持，在提升設備維護運轉率的同時，能夠實現半導體制造工藝的優化。

　　KrF光刻機“FPA-6300ES6a”

　　佳能陸續推出了具有高處理性能的KrF光刻機和支持多種設備的i線光刻機等一系列產品，多年來一直積極地為購置佳能光刻機的客戶提供技術支持。“Lithography Plus”通過綜合運用技術經驗與數據積累，在實現高效維護作業的同時，提高了光刻機運轉率，助力生產效率的提升。

　　1.為半導體光刻機帶來更高效的運營支持

　　該系統具有光刻機狀態分析、定期維護結果分析和光刻機停止原因分析多種功能。根據這些數據，光刻機操作員可以更輕松地制定部件更換與維護方案，做好光刻機的曝光質量控制。此外，該系統的“控制面板(Dash Board)”功能可實現工廠內多個光刻機數據可視化，進一步提高了操作員維護業務的效率。

　　2.搭載能夠有效提升半導體光刻機運轉率的功能

　　通過“異常檢測”功能，可監視光刻機的工作狀態，檢測發生的異常及征兆，防止光刻機停止工作。此外，“自動恢復”功能也有助于故障修復作業。作業無法自動恢復時，可以通過分析設備狀態，提供故障修復手冊，詳細介紹修復方法，來確保故障的順利修復。此外，佳能的專家工程師可以通過遠程客服系統，遠程共享和了解設備狀態，詳細解答操作員提出的問題。

　　3. 工法（Recipe）2優化功能助力實現高成品率

　　該系統搭載的“工藝解決方案”功能匯集了佳能迄今為止積累的光刻機優化案例，并對相關工法(Recipe)進行了優化。通過精細對準和線寬控制設置，可提供自動優化后的工法(Recipe)，從新型半導體工藝投入初期開始，為實現高成品率3提供支持。此外，該系統還具備與APC4等工藝設備的接口，可與生產管理系統聯動運行。