三星計劃進口更多 ASML 極紫外 (EUV) 光刻設備，總價值可達 551 億元人民幣。目前 EUV 光刻設備的問題是產量有限，每年只能生產很有限的數量。

　　目前需要且能購買到 EUV 光刻設備的廠商有五家，其中臺積電約占供應量的 70%。

　　三星電子的目標是在明年上半年進入 3nm 世代的第二代工藝，在 2025 年進入 2nm 工藝，在 2027 年進入 1.4nm 工藝。如果這 50 臺設備的能夠順利交付，那么三星到 2028 年將能夠擁有約 100 臺設備。